高真空电子束式热蒸发薄膜沉积系统
创建时间：2024-07-27 14:02
一、设备参数：
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型号 |
CY-D600 |
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结构形式 |
真空室采用U型箱体前开门，后置抽气系统 |
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真空室 |
400mm×400mm×600mm |
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真空系统配置 |
机械泵+分子泵 |
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极限压力 |
5.0×10-5Pa（经烘烤除气后） |
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恢复真空时间 |
45分钟可达到5.0×10-4Pa |
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电子束 蒸发源 |
270度e型电子枪:阳极电压：6kv、8kv |
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数量:1套 |
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坩埚:水冷式坩埚，4-6穴设计，每个容量11ml |
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功率:0-10kw可调 |
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样品台 |
样片尺寸：可放置120*120mm基片向下兼容 样片加热最高温度：800℃±1℃ 样片旋转：转速0～30转/分 样片与蒸发源间距：300～350mm可调 |
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气路系统 |
0-100SCCM质量流量控制器2路 |
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石英晶振膜厚控制仪 |
膜厚探头数量：1-2只 |
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膜厚测量分辨率:0.01Å/s |
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膜厚显示范围：0~99μ9999Å |
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水冷却循环系统 |
制冷量：5.17KW |
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烘烤照明系统 |
烘烤温度：室温-150℃ |
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烘烤方式：卤素灯 |
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整机控制方式 （控制方式为选配） |
手动控制 |
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半自动控制 |
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全自动化控制 |
